Novice

Novice

Z veseljem z vami delimo rezultate našega dela, novice o podjetju in vam pravočasno posredujemo razvoj dogodkov ter pogoje za imenovanje in razrešitev kadrov.
Kakšna je razlika med aplikacijami silicijevega karbida (SiC) in galijevega nitrida (GaN)? - VeTek Semiconductor10 2024-10

Kakšna je razlika med aplikacijami silicijevega karbida (SiC) in galijevega nitrida (GaN)? - VeTek Semiconductor

SIC in GAN sta široki polprevodniki pasu s prednosti pred silicijem, kot so višje razpadne napetosti, hitrejša hitrost preklopa in vrhunska učinkovitost. SIC je boljši za visokonapetostno uporabo z visoko močjo zaradi svoje večje toplotne prevodnosti, Gan pa se odlikuje v visokofrekvenčnih aplikacijah zaradi svoje vrhunske mobilnosti elektronov.
Načela in tehnologija fizičnega odlaganja hlapov (PVD) (2/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

Načela in tehnologija fizičnega odlaganja hlapov (PVD) (2/2) - Vetek Semiconductor

Izhlapevanje elektronskih snopov je zelo učinkovita in široko uporabljena metoda prevleke v primerjavi z odpornim segrevanjem, ki segreva izhlapevalni material z elektronskim žarkom, zaradi česar se izhlapi in kondenzira v tanek film.
Načela in tehnologija fizičnega nalaganja hlapov (1/2) - Vetek Semiconductor24 2024-09

Načela in tehnologija fizičnega nalaganja hlapov (1/2) - Vetek Semiconductor

Vakuumsko prevleko vključuje izhlapevanje filmskega materiala, transport vakuuma in rast tankih filmov. Glede na različne metode izhlapevanja filmskega materiala in postopki prevoza lahko vakuumsko prevleko razdelimo v dve kategoriji: PVD in CVD.
Kaj je porozni grafit? - Vetek Semiconductor23 2024-09

Kaj je porozni grafit? - Vetek Semiconductor

Ta članek opisuje fizične parametre in značilnosti izdelka poroznega grafita Vetek Semiconductor, pa tudi njegove posebne aplikacije pri polprevodniškem obdelavi.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept