1. Čiščenje in preslikave
Tehnične storitve VeTek Semiconductor pokrivajo čiščenje in preslikavo različnih polprevodniških materialov, s ciljem zagotoviti strankam visoko kakovostne polprevodniške materiale za različne aplikacije. Imamo napredno tehnologijo čiščenja in opremo za učinkovito odstranjevanje nečistoč in s tem povečanje čistosti polprevodniških materialov. Naš proces čiščenja je skrbno zasnovan tako, da vključuje več korakov in strog nadzor kakovosti, da zagotovimo odlično čistost in stabilnost dobavljenih materialov.
Hkrati smo zavezani, da našim strankam zagotovimo natančne in zanesljive storitve kartiranja. Imamo napredno testno opremo in instrumente ter se zanašamo na izkušeno strokovno ekipo, lahko izvajamo celovite meritve in analize značilnosti polprevodniških materialov. Naše kartiranje vključuje preizkuse električnih lastnosti, sestave, čistosti, fizikalnih lastnosti itd., kot tudi poglobljene študije strukture in sestave materiala. S kartiranjem lahko pridobimo podrobne podatke in informacije, da strankam zagotovimo natančno oceno lastnosti materiala in ustrezna priporočila.
GDMS 
D-SIMS 
Koordinatni merilni stroj
2. Zmogljivost strojev
VeTek Semiconductor ima vodilne zmogljivosti strojne obdelave in izkušnje za izdelke iz grafita, silicijevega karbida in druge polprevodniške izdelke, ki lahko zadovoljijo visoko natančnost in visoko čistost strank.
Visoka kakovost in druge zahteve glede obdelave. Orodja, ki jih uporabljamo, postopek rezanja in izbira materialov so prav tako skrbno optimizirani, da dosežemo mikrometrski nadzor velikosti in nadzor izdelka
Visoka kakovost površine. Pozornost namenjamo kontroli kakovosti in optimizaciji procesov v procesu predelave ter izvajamo sprotno spremljanje in kontrolo ključnih parametrov v procesu predelave za zagotavljanje kakovosti izdelkov
Doslednost in stabilnost. Izvajamo tudi strog sistem vodenja kakovosti, da zagotovimo, da so izdelki predelani v skladu z zahtevami strank in industrijskimi standardi, ter izvajamo celovit nadzor kakovosti.
Nenehno bomo vlagali v izboljšave opreme in tehnološke inovacije, da bi zadovoljili naraščajoče potrebe naših strank in jim zagotovili vrhunske rešitve in podporo.
3. Rešitev modifikacije toplotnega polja
Kar zadeva načrtovanje in preoblikovanje termalnega polja, lahko naše podjetje dokonča načrtovanje in serijsko dobavo monokristalov Czochra, polikristalov za litje, galilovega arzenida, cinkovega selenida, safirja, silicijevega karbida in druge različne industrijske opreme. Hkrati imamo za mehanske toplotne izračune različnih struktur, komponent in atmosfer v različnih visokotemperaturnih okoljih tudi profesionalne računalniške zmogljivosti za modeliranje in simulacijo, ki lahko strankam zagotovijo profesionalne programe in predloge za optimizacijo oblikovanja.
Aplikacije
Za izpolnitev raznolikih potreb kupcev polprevodniških materialov in opreme VeTek ponuja ciljno usmerjene tehnične storitve. Naslednja tabela jih razvršča po glavnih področjih storitev:
| Storitveno območje |
Tipične storitve / izdelki |
Opis aplikacije |
| Čiščenje materiala in kartiranje |
Postopki čiščenja; električno / sestava / čistost / testiranje in analiza strukture |
Odstranite nečistoče in v celoti karakterizirajte polprevodniške materiale, da zagotovite visoko čistost, stabilnost in natančno oceno lastnosti za različne aplikacije. |
| Natančna obdelava |
Obdelava grafita, silicijevega karbida in drugih polprevodniških izdelkov |
Visoko natančna strojna obdelava visoke čistosti z mikrometrsko kontrolo nivoja in visoko kakovostjo površine za komponente iz grafita in SiC, ki se uporabljajo v polprevodniški opremi. |
| Oblikovanje in modifikacija toplotnega polja |
Zasnova toplotnega polja in serijska dobava; toplotna simulacija in optimizacija |
Oblikovanje in dobava toplotnih polj za Czochralski, litje, GaAs, ZnSe, safir, SiC in druge sisteme; mehansko-toplotni izračun in optimizacija konstrukcije v pogojih visokih temperatur. |
| Čiščenje delov (CVD SiC) |
Storitev čiščenja grafitnih delov s prevleko CVD SiC |
Specializirano čiščenje za Aixtron/Veeco MOCVD susceptorje in grafitne dele v GaN/AlN/AlGaN epi; odpravlja spominski učinek, ščiti CVD SiC prevleko (nič izgube debeline, nič kovinskih ostankov). |
| Oprema za rast kristalov |
Velika peč za rast kristalov SiC z uporovnim ogrevanjem |
Uporovne grelne peči na osnovi PVT za stabilno rast kristalov SiC velikosti 6–12 palcev; natančen nadzor temperature, tlaka in moči za zmanjšanje napak in podporo industrijski proizvodnji. |
Za povezane materiale in procesne rešitve glejtePrevleka iz silicijevega karbida, Poseben grafitinEpitaksija iz silicijevega karbidastrani
Kot profesionalni proizvajalec in dobavitelj tehničnih storitev na Kitajskem imamo lastno tovarno. Ne glede na to, ali potrebujete prilagojene storitve za izpolnjevanje posebnih potreb vaše regije ali želite kupiti napredno in vzdržljivo tehnično storitev, izdelano na Kitajskem, lahkopustite nam sporočilo.
