VeTek Semiconductor ponuja obsežno paleto polprevodniške keramike za izboljšano obdelavo. Naši premazi iz silicijevega karbida so znani po svoji gostoti, odpornosti na visoke temperature in kemični odpornosti, zaradi česar so idealni za različne stopnje proizvodnje polprevodnikov. Ti premazi se uporabljajo pri obdelavi in izdelavi polprevodniških rezin, kar zagotavlja učinkovitost in zanesljivost.
Poleg tega nudimo še ostalo polprevodniško keramiko:
Kvarc: Kvarc kaže odlično visokotemperaturno stabilnost, kemično inertnost in optično prosojnost. Najde široko uporabo v proizvodnji polprevodnikov, vključno s fotolitografijo, kemičnim naparjevanjem (CVD) in fizičnim naparjevanjem (PVD). Kvarčni substrati, cevi in okna igrajo ključno vlogo v procesu izdelave polprevodnikov.
Keramika iz aluminijevega oksida: Keramika iz aluminijevega oksida ponuja izjemne izolacijske lastnosti, stabilnost pri visokih temperaturah in kemično inertnost. Običajno se uporabljajo v polprevodniški opremi za komponente, kot so izolatorji, tesnila, embalaža in podlage. Keramika iz aluminijevega oksida je zaradi visoke izolacije in visoke temperaturne odpornosti pomembna materiala v proizvodnji polprevodnikov.
Keramika iz borovega nitrida: Keramika iz borovega nitrida ima odlično toplotno prevodnost, visoko trdoto in kemično inertnost. Obširno se uporabljajo v visokotemperaturnih okoljih v proizvodnji polprevodnikov, kot so žarjenje, toplotna obdelava in pakiranje. Keramika iz borovega nitrida se običajno uporablja za proizvodnjo vpenjal, grelnih elementov, toplotnih odvodov in podlag.
Cirkonij: Cirkonij je keramični material visoke trdnosti, visoke trdote in toplote odporen. Ima izjemno kemično stabilnost in dobre izolacijske lastnosti. V proizvodnji polprevodnikov se cirkonij pogosto uporablja za izdelavo izolacijskih komponent, oken in senzorjev v okoljih z visoko temperaturo. Zaradi odlične toplotne prevodnosti in nizke dielektrične izgube se cirkonijev oksid pogosto uporablja tudi v RF in mikrovalovnih napravah.
Silicijev nitrid: Silicijev nitrid je keramični material, odporen na visoke temperature in korozijo, z odlično mehansko trdnostjo in toplotno prevodnostjo. Običajno se uporablja v proizvodnji polprevodnikov za kritične komponente, kot so tankoplastna inkapsulacija, izolacijske plasti, senzorji in distančniki. Silicijev nitrid ima izjemne izolacijske lastnosti in kemično stabilnost, kar omogoča stabilno delovanje pri visokih temperaturah in težkih okoljih. Poleg tega je zaradi nizke dielektrične konstante in majhne dielektrične izgube idealna izbira za visokofrekvenčne elektronske naprave in mikroelektronsko embalažo.
Pri VeTek Semiconductor smo zavezani zagotavljanju visokokakovostne druge polprevodniške keramike, ki izpolnjuje zahtevne zahteve industrije.
Ključne značilnosti
● Obsežen portfelj materialov: kremen, aluminijev oksid (Al₂O₃), borov nitrid (BN), cirkonij (ZrO₂) in silicijev nitrid (Si₃N₄).
● Visoka čistost in nizka kontaminacija, primerna za polprevodniška procesna okolja.
● Odlična visokotemperaturna stabilnost, kemična inertnost in prilagojene toplotne/električne lastnosti za vsak material.
● Zmogljivost natančne strojne obdelave za čolne, cevi, okna, ščite, izolatorje, napeljave, senzorje in dele po meri.
● Preizkušene aplikacije v CVD/PVD, fotolitografiji, difuziji, žarjenju, pakiranju in RF/mikrovalovnih napravah.
● Certificiran nadzor kakovosti ISO9001 in podpora za prilagoditev, ki ustreza specifični opremi in zahtevam procesa.
Aplikacije
Za izpolnitev raznolikih potreb polprevodniških procesov VeTek ponuja ciljno usmerjene izdelke druge polprevodniške keramike. Naslednja tabela jih razvršča po glavnih materialih in področjih uporabe:
| Material / Polje |
Tipični izdelki |
Opis aplikacije |
| Kvarc |
Čolni iz kvarčnih napolitank, neprozorni kvarčni ščitniki/oknice, vrhnji pokrovi, lončki, cevi, okna |
Visokotemperaturna stabilnost, kemična inertnost in optična prosojnost za fotolitografijo, CVD, PVD, difuzijo, oksidacijo, žarjenje in zaščito komore MOCVD. |
| Aluminijev oksid (Al₂O₃) |
Izolatorji, tesnila, deli embalaže, substrati |
Izjemna izolacija, visokotemperaturna stabilnost in kemična inertnost za komponente polprevodniške opreme, ki zahtevajo električno izolacijo in toplotno odpornost. |
| borov nitrid (BN) |
Napeljave, grelni elementi, toplotni odvodi, podlage |
Odlična toplotna prevodnost, visoka trdota in kemična inertnost za žarjenje, toplotno obdelavo in pakiranje v visokotemperaturnih polprevodniških procesih. |
| Cirkonij (ZrO₂) |
Izolacijske komponente, okna, senzorji |
Visoka trdnost, trdota in toplotna odpornost z dobro izolacijo; uporablja se v visokotemperaturnih okoljih in RF/mikrovalovnih napravah zaradi nizke dielektrične izgube. |
| Silicijev nitrid (Si₃N₄) |
Enkapsulacija v tanki film, izolacijski sloji, senzorji, distančniki |
Odpornost na visoke temperature in korozijo z odlično mehansko trdnostjo; idealno za visokofrekvenčne naprave in mikroelektronsko embalažo (nizka dielektrična konstanta/izguba). |
Za podrobnejše rešitve za ujemanje procesov glejtePolprevodniški kremenpovezane strani.
Kot profesionalni proizvajalec in dobavitelj Advance Ceramics na Kitajskem imamo lastno tovarno. Ne glede na to, ali potrebujete storitve po meri za izpolnjevanje posebnih potreb vaše regije ali želite kupiti napredno in vzdržljivo drugo polprevodniško keramiko, izdelano na Kitajskem, lahkopustite nam sporočilo.
