Mehka klobučevina iz ogljikovih vlaken na osnovi PAN-a

1. Glavni dejavniki uspešnosti

• Visoka čistost:Razredi visoke čistosti z vsebnostjo pepela pod 20 ppm, da se prepreči kontaminacija med rastjo občutljivih polprevodnikov.
• Toplotna učinkovitost:Nizka toplotna prevodnost 0,1–0,13 W/(m*k) pri 25°C ohranja stabilne temperaturne gradiente in zmanjšuje izgubo energije.
• Toplotna odpornost:Zanesljiva stabilnost tudi v okoljih nad 2200°C.
• Strukturna celovitost:Naš postopek oblikovanja z zračnim curkom ohranja vlakna enakomerna. To preprečuje vroče točke in utrujenost materiala, ki pogosto zmotijo ​​dolge cikle rasti.  

3. Aplikacije

Proizvodnja polprevodnikov:To je ključna izolacijska plast za postavitve peči za rast kristalov iz monokristalnega silicija in SiC.

Komunikacije z optičnimi vlakni:Idealno za uporabo v pečeh za sintranje, vlečnih stolpih in proizvodnji visokotemperaturnih palic.

Napredne raziskave:Zaupanje v peči za rast safirja in specializirane sisteme za visokotemperaturno čiščenje.

4. Zakaj izbrati VETEK?

Hitrejši pretok:Z uporabo materialov z nizko specifično toploto smo naredili toplotno kroženje veliko hitrejše – to neposredno poveča vaš dnevni pretok.

Zanesljiva zaščita:Naša proizvodnja se osredotoča na strog nadzor gostote vlaken; odpravimo šibke točke, tako da dobite zanesljivo zaščito celotne komore.

Standardnoi HPSI:Za procese HPSI in RF so naši standardi visoke čistosti zasnovani posebej za obvladovanje teh občutljivih zahtev z visoko upornostjo.
Enostavna namestitev:Ker je material naravno prožen, ga je mogoče natančno izrezati, da se prilega zapletenim geometrijam, kar resnično pomaga poenostaviti celoten postopek namestitve.