Spletni meni

Iskanje izdelkov

Jezik

Izbrani izdelki

O nas

O nas

VeTek Semiconductor Technology Co., Ltd.
VeTek semiconductor Technology Co., LTD., ustanovljeno leta 2016, je vodilni ponudnik naprednih premaznih materialov za industrijo polprevodnikov. Naš ustanovitelj, nekdanji strokovnjak z Inštituta za materiale Kitajske akademije znanosti, je ustanovil podjetje s poudarkom na razvoju vrhunskih rešitev za industrijo.

Naša glavna ponudba izdelkov vključujeCVD prevleke iz silicijevega karbida (SiC)., prevleke iz tantalovega karbida (TaC)., SiC v razsutem stanju, prah SiC in materiali SiC visoke čistosti. Glavni proizvodi so grafitni sprejemnik s prevleko iz SiC, predgrelni obroči, preusmerjevalni obroč s prevleko iz TaC, deli polmeseca itd., čistost je pod 5 ppm, lahko izpolnijo zahteve kupcev.
Poglej več
VeTek je profesionalni proizvajalec in dobavitelj prevleke iz silicijevega karbida, prevleke iz tantalovega karbida in posebnega grafita na Kitajskem. Lahko ste prepričani, da boste izdelke kupili v naši tovarni, mi pa vam bomo ponudili kakovostne poprodajne storitve.

Novice

  • Kaj je PECVD grafitni čoln?
    2025-03-04
    Kaj je PECVD grafitni čoln?

    Osrednji material PECVD grafitnega čolna je izotropni grafitni material z visoko čistostjo (čistost je običajno ≥99,999%), ki ima odlično električno prevodnost, toplotno prevodnost in gostoto. V primerjavi z navadnimi grafitnimi čolni imajo PECVD grafitni čolni številne fizične in kemijske lastnosti in se uporabljajo predvsem v polprevodniški in fotovoltaični industriji, zlasti v procesih PECVD in CVD.

  • Kako porozni grafit izboljšuje rast kristalov silicijevega karbida?
    2025-01-09
    Kako porozni grafit izboljšuje rast kristalov silicijevega karbida?

    Ta blog je zavzet "Kako porozni grafit izboljšuje rast kristalov iz silicijevega karbida?" Kot svojo temo in podrobno razpravlja o poroznih grafitnih ključnih potezah, vlogi silicijevega karbida v tehnologiji polprevodnikov, edinstvenih lastnosti poroznega grafita, kako porozni grafit optimizira postopek PVT, inovacije v poroznih grafitnih materialih in drugih kotov.

  • CVD tehnološka inovacija za Nobelovo nagrado
    2025-01-02
    CVD tehnološka inovacija za Nobelovo nagrado

    Ta blog razpravlja o posebnih aplikacijah umetne inteligence na področju KVB iz dveh vidikov: pomen in izzivi tehnologije kemičnih nanašanja hlapov (CVD) v fiziki in tehnologiji KVB ter strojnega učenja.

  • Kaj je sic prevlečen z grafitom?
    2024-12-27
    Kaj je sic prevlečen z grafitom?

    Ta blog vzame "Kaj je sic prevlečen z grafitnim obspevcem?" Kot njena tema in o njej razpravlja z vidika epitaksialne plasti in njegove opreme, je pomen sic prevlečenega grafitnega asiceptorja v opremi KVB, tehnologije SIC prevleke, tržni konkurenci in tehnološki inovaciji Vetek Semiconductor.

  • Kako pripraviti CVD TAC prevleko? - Vetkeksemin
    2024-08-23
    Kako pripraviti CVD TAC prevleko? - Vetkeksemin

    Ta članek uvaja značilnosti izdelka CVD TAC prevleke, postopek priprave CVD TAC prevleke z uporabo metode CVD in osnovno metodo za odkrivanje površinske morfologije pripravljene CVD TAC prevleke.

  • Kaj je prevleka Tantalum Carbide TAC? - Vetkeksemin
    2024-08-22
    Kaj je prevleka Tantalum Carbide TAC? - Vetkeksemin

    Ta članek uvaja značilnosti izdelka TAC prevleke, specifični postopek priprave izdelkov TAC prevleke s pomočjo tehnologije CVD, uvaja najbolj priljubljeno prevleko TAC Veteksemicon in na kratko analizira razloge za izbiro Veteksemican.

  • Kaj je tac prevleka? - Vetek Semiconductor
    2024-08-15
    Kaj je tac prevleka? - Vetek Semiconductor

    Ta članek v glavnem uvaja vrste izdelkov, značilnosti izdelka in glavne funkcije TAC prevleke pri obdelavi polprevodnikov ter naredi celovito analizo in razlago izdelkov TAC prevleke kot celote.

  • Kako prevleka iz tantalovega karbida (TaC) doseže dolgoročno uporabo pri ekstremnih termičnih ciklih?
    2025-12-22
    Kako prevleka iz tantalovega karbida (TaC) doseže dolgoročno uporabo pri ekstremnih termičnih ciklih?

    ​Rast silicijevega karbida (SiC) PVT vključuje hudo toplotno kroženje (sobna temperatura nad 2200 ℃). Ogromen toplotni stres, ki nastane med prevleko in grafitno podlago zaradi neusklajenosti koeficientov toplotnega raztezanja (CTE), je glavni izziv, ki določa življenjsko dobo prevleke in zanesljivost nanosa.

  • Kaj naredi kremenčevo kopel visoke čistosti bistvenega pomena za napredne procese polprevodnikov
    2025-12-22
    Kaj naredi kremenčevo kopel visoke čistosti bistvenega pomena za napredne procese polprevodnikov

    Pri proizvodnji polprevodnikov, sončnih celic in mikroelektronike natančna mokra obdelava, kot je čiščenje rezin, jedkanje in priprava površine, zahteva materiale in opremo, ki zagotavljajo izjemno čistost, toplotno stabilnost in odpornost proti koroziji. Kvarčna kopel visoke čistosti zagotavlja te lastnosti s konstrukcijo iz sintetičnega taljenega kremena, zaradi česar je temelj sodobnih proizvodnih okolij.

  • Kako premazi iz tantalovega karbida stabilizirajo toplotno polje PVT?
    2025-12-17
    Kako premazi iz tantalovega karbida stabilizirajo toplotno polje PVT?

    V procesu rasti kristalov silicijevega karbida (SiC) PVT stabilnost in enakomernost toplotnega polja neposredno določata hitrost rasti kristalov, gostoto napak in enotnost materiala. Kot meja sistema imajo komponente toplotnega polja površinske termofizične lastnosti, katerih rahla nihanja se dramatično povečajo v pogojih visoke temperature, kar na koncu vodi do nestabilnosti na vmesniku rasti.

  • Zakaj rast kristalov iz silicijevega karbida (SiC) PVT ne more brez prevlek iz tantalovega karbida (TaC)?
    2025-12-13
    Zakaj rast kristalov iz silicijevega karbida (SiC) PVT ne more brez prevlek iz tantalovega karbida (TaC)?

    V procesu gojenja kristalov silicijevega karbida (SiC) z metodo fizičnega hlapnega transporta (PVT) je ekstremno visoka temperatura 2000–2500 °C "dvorezen meč" - medtem ko poganja sublimacijo in transport izvornih materialov, hkrati dramatično poveča sproščanje nečistoč iz vseh materialov v sistemu termičnega polja, zlasti kovinskih elementov v sledovih, ki jih vsebuje običajni grafit. komponente vroče cone. Ko te nečistoče vstopijo v rastni vmesnik, bodo neposredno poškodovale kakovost jedra kristala. To je temeljni razlog, zakaj so prevleke iz tantalovega karbida (TaC) postale »obvezna možnost« in ne »izbirna izbira« za rast kristalov PVT.

  • Kakšne so metode obdelave in obdelave keramike iz aluminijevega oksida
    2025-12-12
    Kakšne so metode obdelave in obdelave keramike iz aluminijevega oksida

    Pri Veteksemiconu se dnevno spopadamo s temi izzivi in ​​smo specializirani za preoblikovanje napredne keramike iz aluminijevega oksida v rešitve, ki izpolnjujejo natančne specifikacije. Razumevanje pravih metod obdelave in obdelave je ključnega pomena, saj lahko napačen pristop povzroči drage odpadke in okvaro komponent. Raziščimo profesionalne tehnike, ki to omogočajo.

X
Piškotke uporabljamo, da vam ponudimo boljšo izkušnjo brskanja, analiziramo promet na spletnem mestu in prilagodimo vsebino. Z uporabo te strani se strinjate z našo uporabo piškotkov. Politika zasebnosti
Zavrni Sprejmi