Podporna služba

VeTek Semiconductor dobavlja visokokakovostne enokristalne rezine iz aluminijevega nitrida (AlN) in substrate za polprevodniške naprave z ultra širokim pasovnim presledkom naslednje generacije. Z ultra širokim pasovnim razmakom približno 6,2 eV, izjemno toplotno prevodnostjo, izjemno električno izolacijo ter odličnim ujemanjem mreže in toplotnega raztezanja z GaN so rezine AlN idealne za visokozmogljive RF naprave, visokonapetostno močnostno elektroniko in globoko ultravijolično (DUV) optoelektroniko.

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts je specializirana tehnična storitev, zasnovana za susceptorje opreme Aixtron / Veeco MOCVD in grafitne komponente, ki se uporabljajo v epitaksialnih procesih GaN / AlN / AlGaN. Naš lastniški postopek čiščenja temeljito odpravi učinek površinskega spomina, obnovi stabilen pretok plina v reaktorju in strogo zaščiti 100 µm CVD SiC prevleko z absolutno ničelno izgubo debeline in ničelnim ostankom kovine.

Ker povpraševanje po pretvornikih MEMS z visoko občutljivostjo in nizko porabo energije narašča s širitvijo komunikacij 5G, natančnih medicinskih naprav in pametnih nosljivih naprav, naše rezine PZT na Si/SOI zagotavljajo kritično materialno rešitev. Z uporabo naprednih postopkov tankoslojnega nanašanja, kot je sol-gel ali razprševanje, dosežemo izjemno konsistenco in vrhunsko piezoelektrično zmogljivost na silicijevih substratih. Te rezine služijo kot temeljno jedro za elektromehansko pretvorbo energije.

Rast kristalov silicijevega karbida je ključni proces v proizvodnji visoko zmogljivih polprevodniških naprav. Stabilnost, natančnost in združljivost opreme za rast kristalov neposredno določajo kakovost in izkoristek ingotov silicijevega karbida. Na podlagi značilnosti tehnologije fizičnega prenosa pare (PVT) je Veteksemi razvil uporovno grelno peč za rast kristalov silicijevega karbida, ki omogoča stabilno rast 6-palčnih, 8-palčnih in 12-palčnih kristalov silicijevega karbida s popolno združljivostjo s prevodnimi, polizolacijskimi in materialnimi sistemi tipa N. Z natančnim nadzorom temperature, tlaka in moči učinkovito zmanjša defekte kristalov, kot sta EPD (Etch Pit Density) in BPD (Basal Plane Dislocation), hkrati pa ima nizko porabo energije in kompaktno zasnovo, ki ustreza visokim standardom industrijske velike proizvodnje.

Polirna gošča CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) je visoko zmogljiv material, ki se uporablja pri proizvodnji polprevodnikov in natančni obdelavi materialov. Njegova glavna funkcija je doseči fino ravnost in poliranje površine materiala pod sinergijskim učinkom kemične korozije in mehanskega brušenja, da se izpolnijo zahteve glede ravnosti in kakovosti površine na nano ravni. Veselimo se vašega nadaljnjega posvetovanja.

Kot vodilni kitajski proizvajalci in dobavitelji sic rezin je Vetek polprevodniški CVD sic sic lutka za prevleko specializirano orodje za proizvodnjo polprevodnikov, ki se uporablja predvsem za namene testiranja silicijevih rezin in testiranja rezin. Vaše nadaljnje poizvedbe so dobrodošle.