Ultra čisti grafit spodnji pol min

Vetek Semiconductor je profesionalni proizvajalec, namenjen zagotavljanju ultra čistega grafita spodnje polmeseca. Naši izdelki Ultra Pure Graphite Spodnji polmesec so zasnovani posebej za Epitaxalialne komore SIC in nudijo vrhunsko zmogljivost in združljivost z različnimi modeli opreme.

Značilnosti:

Povezava: Vetek Semiconductor Ultra Pure Graphite Spodnja polma je zasnovana tako, da se poveže s kremenčevimi cevmi, kar olajša pretok plina, da poganja vrtenje nosilne podlage.

Nadzor temperature: Izdelek omogoča nadzor temperature in zagotavlja optimalne pogoje znotraj reakcijske komore.

Nekontaktni dizajn: Nameščena v reakcijski komori, naša ultra čista grafit spodnje polovice se ne obrne neposredno na rezine, kar zagotavlja celovitost postopka.

Scenarij prijave:

Naša ultra čista grafitna spodnja polovica služi kot kritična sestavina v epitaksialnih komorah SIC, kjer pomaga ohranjati vsebino nečistoče pod 5 ppm. Z natančnim spremljanjem parametrov, kot sta debelina in enotnost koncentracije dopinga, zagotavljamo najvišje kakovostne epitaksialne plasti.

Združljivost:

Ultra čisti grafitni spodnji polmeci Vetek Semiconductor je združljiv s široko paleto modelov opreme, vključno z LPE, Naura, JSG, CETC, NASO Tech ipd.

Vabimo vas, da obiščete našo tovarno na Kitajskem, da raziščete naš visokokakovosten ultra čisti grafit spodnji polmesec iz prve roke.

Osnovne fizikalne lastnosti CVD SiC prevleke:

Primerjajte trgovino s proizvodnjo polprevodnikov:

Pregled industrijske verige polprevodniških čipov Epitaxy: