Izdelki

Vetek Semiconductor je profesionalni proizvajalec in dobavitelj, namenjen zagotavljanju visokokakovostnega GAN epitaksialnega grafita za G5. S številnimi znanimi podjetji doma in v tujini smo vzpostavili dolgoročno in stabilno partnerstvo, pri čemer smo si prislužili zaupanje in spoštovanje naših strank.

VeTek Semiconductor je vodilni proizvajalec in inovator obroča s tremi lističi s prevleko iz TaC na Kitajskem. Že vrsto let smo specializirani za prevleke iz TaC in SiC. Naši izdelki so odporni proti koroziji in imajo visoko trdnost. Veselimo se, da bomo postali vaš dolgoročni partner na Kitajskem. Dobrodošli na posvetu kadar koli.

Vetek Semiconductor's Semiconductor Block Block SIC Coated je zelo zanesljiva in trpežna naprava. Zasnovan je tako, da vzdrži visoke temperature in ostro kemična okolja, hkrati pa ohranja stabilno zmogljivost in dolgo življenjsko dobo. S svojimi odličnimi procesnimi zmogljivostmi polprevodniški zabresni blok SiC prevlečeno zmanjšuje pogostost zamenjave in vzdrževanja, s čimer izboljša učinkovitost proizvodnje. Veselimo se možnosti, da bomo sodelovali z vami.

Vetek Semiconductor je vodilni proizvajalec in inovator, prevlečen s Tantalum Carbide, na Kitajskem. Specializirani smo za TAC prevleko že vrsto let. Naši izdelki imajo visoko čistost in visoko temperaturno odpornost do 2000 ℃. Veselimo se, da boste postali vaš dolgoročni partner na Kitajskem.

Vetek Semiconductor je vodilni proizvajalec in inovator za prevleko s karbidom Tantalum na Kitajskem. Specializirani smo za TAC in SIC prevleko že vrsto let. Naši izdelki imajo korozijsko odpornost in visoko moč. Veselimo se, da bomo na Kitajskem postali vaš dolgoročni partner.

Tri-Petalni grafitni lonček Vetek Semiconductor je izdelan iz grafitnega materiala z visoko čistostjo, obdelanim s površinskim pirolitičnim ogljikovim premazom, ki se uporablja za vlečenje enojnega kristalnega toplotnega polja. V primerjavi s tradicionalnim loncem je struktura tri-slavnega dizajna bolj priročna za namestitev in razstavljanje, izboljšanje učinkovitosti dela, nečistoče pod 5ppm pa lahko ustreza uporabi polprevodniške in fotovoltaične industrije.