Sic konzolni vesla

Ⅰ.....

SIC konzolne padle se uporabljajo predvsem v opremi za proizvodnjo polprevodnikov kot podpore za rezine in komponente prenosa. Njegova temeljna funkcija je stabilno in natančno obdelati silicijeve rezine v ekstremnih procesnih pogojih, kot sta visoka temperatura in visoka korozija, kar zagotavlja nemoten in učinkovit proizvodni postopek.

Ⅱ.Advanta in značilnosti materialov SIC

SIC je napredni keramični material, katerega odlične fizikalne lastnosti mu daje neprimerljivo prednost na polprevodniškem polju. Sledijo ključni fizični parametri, povezani z veslami SIC:

● Visoka čistost: Uporaba materiala za visoko čistost SIC lahko zmanjša kontaminacijo procesa in izboljša donos izdelka.

● Odlična visoka temperaturna odpornost: SIC ima tališče do 2830 ° C, kar mu omogoča ohranjanje strukturne celovitosti v ekstremnih temperaturnih okoljih, kot sta jedkanje plazme in visoko temperaturno žarjenje, dolgoročna delovna temperatura pa lahko doseže več kot 1000 ° C.

● Visoka trdota in odpornost na obrabo: Trdota MOHS je 9-9,5, drugi le do diamanta, ki daje SIC konzolni vesla odlično odpornost proti obrabi in ohranja dimenzijsko stabilnost med visokofrekvenčnim prenosom rezin.

● Odlična toplotna prevodnost: Toplotna prevodnost keramike SiC znaša kar 120-250 w/(m · k) (tipična vrednost), ki lahko hitro razprši toploto in se izogne lokalnemu pregrevanju, ki lahko poškoduje rezino.

● Koeficient nizke toplotne ekspanzije: Nizka koeficient toplotne ekspanzije (približno 4,0 × 10⁻⁶ /k) zagotavlja dimenzijsko stabilnost, ko se temperatura spremeni, se izogne stresu, ki ga povzroča toplotna ekspanzija in krčenje, in tako zmanjša tveganje za poškodbe rezin.

Ⅲ. Scenariji aplikacij SIC konzole vesla

Edinstvene lastnosti SIC Cantilever vesla jim omogočajo, da igrajo ključno vlogo pri več povezavah proizvodnje polprevodnikov:

● Oprema za jedkanje v plazmi: V komori za plazemsko jedko SIC Cantilever vesla služijo kot nosilci rezin, ki lahko prenesejo bombardiranje v plazmi in jedko erozijo plina, hkrati pa ohranjajo dimenzijsko stabilnost, zagotavljajo natančnost jedkanja in podaljšanje življenjske dobe opreme.

● Oprema za nalaganje tankega filma (CVD/PVD): V procesu kemičnega odlaganja hlapov (CVD) in fizičnega odlaganja hlapov (PVD) se za podporo rezine uporabljajo Cantilever Cantilever. Njihova odlična visoka temperaturna odpornost in toplotna prevodnost pomagata enakomerno ogrevati rezine in preprečiti kontaminacijo delcev, ustvarjeno med postopkom nanašanja tankega filma.

● Sistem prenosa rezin: V sistemu avtomatiziranega prenosa rezin lahko Cantilever vesla z vzdrži visokofrekvenčnega mehanskega gibanja zaradi visoke trdote in odpornosti proti obrabi, kar zagotavlja natančen in hiter prenos rezin med različnimi procesnimi komorami, kar zmanjša tveganje za poškodbe rezin in kontaminacije.

● postopek žarjenja z visoko temperaturo: V peči visoke temperature lahko vesla s konzoli SIC zdrži ultra visoka temperaturna okolja, zagotavlja stabilno podporo rezine in zagotovi enakomernost in učinkovitost postopka žarjenja.

VETEKSEMON dobro pozna stroge zahteve polprevodniških procesov za kakovost izdelka. Zato podpiramo prilagojene storitve in lahko zagotovimo prilagojeno zasnovo in proizvodnjo Cantilever Cantilever v skladu s posebnimi zahtevami opreme in postopkov. Prav tako bomo nadzorovali strog nadzor kakovosti, da bomo zagotovili, da bo vsak izdelek pod strogimi pregledi kakovosti, da bi zagotovil, da bo ustrezal najvišjim industrijskim standardom.

Še pomembneje je, da vam bo tehnična ekipa Vetek Semiconductor zagotovila celovito tehnično posvetovanje in rešitve izdelkov. Izbira našega konzolnega vesla s SIC pomeni izbiro večje učinkovitosti proizvodnje, daljšo življenjsko dobo opreme in boljši donos izdelka. Veselimo se vašega nadaljnjega posvetovanja.