Trdna glava za tuširanje s plinom

Trdna glava za tuširanje s plinom

VeTek Semiconductor je integrirano podjetje, namenjeno raziskavam, proizvodnji in prodaji. VeTek Semiconductor že vrsto let dela na polprevodniški epitaksiji, jedkanju in drugih izdelkih, povezanih s procesi, zlasti CVD SiC prevleka, CVD TaC prevleka in CVD Solid SiC so naši vodilni izdelki.

VeTek Semiconductor Solid SiC Gas Shower Head se običajno uporablja za enakomerno porazdelitev predhodnih plinov na površino substrata med polprevodniškimi CVD procesi. Uporaba materiala CVD-SiC za prhe nudi številne prednosti. Njegova visoka toplotna prevodnost pomaga pri odvajanju toplote, ki nastane v procesu CVD, in zagotavlja enakomerno porazdelitev temperature na podlagi. Poleg tega kemijska stabilnost glave prhe CVD sic omogoča, da vzdrži korozivne pline in težka okolja, ki se običajno pojavljajo pri procesih CVD. 

Zasnova pršnih glav CVD SiC se lahko prilagodi posebnim sistemom CVD in zahtevam procesa. Vendar so običajno sestavljeni iz komponente v obliki plošče ali diska z nizom natančno izvrtanih lukenj ali rež. Vzorec lukenj in geometrija sta skrbno zasnovana, da zagotovita enakomerno porazdelitev plina in hitrost pretoka po površini substrata.

Fizikalne lastnosti trdnega SiC