ALD Fused Quartz podstavek

Vetek Semiconductor ALD Fused Quartz podstavek ima ključno vlogo v procesu izdelave polprevodnikov kot podporna struktura zakvarčni čoln, ki se uporablja za držanjeoblat. Podstavek iz taljenega kremena pomaga doseči enakomerno nanašanje filma z vzdrževanjem stabilne temperature, kar neposredno vpliva na delovanje in zanesljivost polprevodniških naprav. Poleg tega Quartz Pedestal zagotavlja enakomerno porazdelitev toplote in svetlobe v procesni komori, s čimer izboljša splošno kakovost postopka nanašanja.

Prednosti materiala za podstavek iz taljenega kremena ALD

Visoka temperaturna odpornost: Zmehčišče podstavka iz taljenega kremena je približno 1730 °C in lahko dolgo časa prenese visokotemperaturno delovanje od 1100 °C do 1250 °C in je lahko izpostavljen ekstremnim temperaturnim okoljem do 1450 °C. za kratek čas.

Odlična odpornost proti koroziji: TOLIND Kremen je zelo kemično inerten za skoraj vse kisline, razen z bistveno kislino. Njegova kislinska odpornost je 30 -krat večja od keramike in 150 -krat večja od nerjavečega jekla. Fused Quartz je kemično neprimerljiv pri visokih temperaturah, zaradi česar je idealen material za zapletene kemične procese.

Toplotna stabilnost: Ključna značilnost gradiva za podstavek iz kremena je izjemno nizek koeficient toplotne ekspanzije. To pomeni, da zlahka prenese dramatična temperaturna nihanja brez razpoka. Na primer, zlit kremen kremena je mogoče hitro segreti na 1100 ° C in ga brez poškodb potopiti neposredno v hladno vodo, kar je pomembna lastnost v pogojih proizvodnje z visokim stresom.

Strog proizvodni proces: Proizvodni proces podstavkov iz taljenega silicijevega dioksida se strogo drži visokih standardov kakovosti. Proizvodni proces uporablja postopke vročega oblikovanja in varjenja, ki se običajno zaključijo v okolju čistih prostorov razreda 10.000. Nato se podstavek iz taljenega kremenčevega stekla temeljito očisti z ultračisto vodo (18 MΩ), da se zagotovi čistost izdelka in optimalno delovanje. Vsak končni izdelek je strogo pregledan, očiščen in zapakiran v čisti sobi razreda 1.000 ali višje, da ustreza visokim standardom polprevodniške industrije.

Neprozorna kremenalna material z visoko čistostjo

VeTeksemi ALD Fused Quartz Pidestal uporablja neprozoren kremenčev material visoke čistosti za učinkovito izolacijo toplote in svetlobe. Njegove odlične lastnosti toplotne zaščite in zaščite pred svetlobo mu omogočajo, da ohranja enakomerno porazdelitev temperature v procesni komori, kar zagotavlja enotnost in konsistenco tankeodlaganje filmana površini oblata.

Polja uporabe

Zlivanje kremenčev podstavki se zaradi odlične zmogljivosti pogosto uporabljajo na številnih področjih polprevodniške industrije. Vproces nanašanja atomske plasti (ALD)., podpira natančen nadzor rasti filma in zagotavlja napredek polprevodniških naprav. VProces nanašanja kemičnega pare (LPCVD) z nizkim tlakom, Toplotna stabilnost in lahka zaščita na podstavku z visoko čistostjo kremenčenja zagotavljata garancija za enakomerno odlaganje tankih filmov, s čimer se izboljšata zmogljivost in donos naprave.

Poleg tega v postopku difuzijske rezine visoka temperaturna odpornost in odpornost na kemično korozijo fused Quartz Pedestal zagotavljata zanesljivost in doslednost postopka dopiranja polprevodniškega materiala. Ti ključni procesi določajo električno zmogljivost polprevodniških naprav, visokokakovostni materiali iz taljenega kremena pa igrajo nepogrešljivo vlogo pri doseganju najboljših rezultatov teh procesov.

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal Trgovine: