Porozni sic keramični krožnik

Porozna sic keramična plošča je porozni konstrukcijski keramični material izSilicijev karbidkot glavna komponenta in v kombinaciji s posebnim postopkom sintranja. Njegova poroznost je nastavljiva (ponavadi 30%-70%), porazdelitev velikosti por je enakomerna, ima odlično visoko temperaturno odpornost, kemično stabilnost in odlično prepustnost plina in se pogosto uporablja pri proizvodnji polprevodnikov, nanašanju kemičnih hlapov (CVD), filtraciji visoke temperature in drugih polj.

In za več informacij o porozni sic keramični plošči si oglejte ta blog.

Porozni sic keramični diskOdlične fizikalne lastnosti

● Izjemna visoka temperaturna odpornost:

Tališče sic keramike znaša kar 2700 ° C in še vedno lahko ohranja strukturno stabilnost nad 1600 ° C, kar daleč presega tradicionalno keramiko alumina (približno 2000 ° C), zlasti primerno za polprevodniške visokotemperaturne procese.

● Odlična uspešnost toplotnega upravljanja:

✔ Visoka toplotna prevodnost: toplotna prevodnost gostega sic je približno 120 w/(m · k). Čeprav porozna struktura rahlo zmanjša toplotno prevodnost, je še vedno bistveno boljša od večine keramike in podpira učinkovito odvajanje toplote.

✔ Nizka koeficient toplotne ekspanzije (4,0 × 10⁻⁶/° C): skoraj ni deformacije pri visoki temperaturi, pri čemer se izognete okvari naprave, ki jo povzroča toplotni stres.

● Odlična kemična stabilnost

Korozijska odpornost na kislino in alkali (zlasti izstopa v HF okolju), visoko temperaturna oksidacijska odpornost, primerna za stroga okolja, kot sta jedkanica in čiščenje.

● Izjemne mehanske lastnosti

✔ Visoka trdota (MOHS trdota 9.2, drugi le do diamanta), močna odpornost proti obrabi.

✔ Trdnost upogiba lahko doseže 300-400 MPa, zasnova strune pore pa upošteva tako lahka kot mehanska trdnost.

● Funkcionalizirana porozna struktura

✔ Visoka specifična površina: izboljšajte učinkovitost difuzije plina, primerno kot plošča za distribucijo reakcijskega plina.

✔ Nadzorna poroznost: Optimizirajte penetracijo tekočine in filtracijo, kot je enakomerna tvorba filma v procesu CVD.

Posebna vloga v proizvodnji polprevodnikov

● Podpora za visoko temperaturo in toplotna izolacija

Kot podporna plošča rezin se uporablja v visokotemperaturni opremi (> 1200 ° C), kot so difuzijske peči in žarjenje peči, da se prepreči onesnaženje s kovino.

Porozna struktura ima tako izolacijske kot podporne funkcije, kar zmanjšuje izgubo toplote.

● Enotna porazdelitev plina in nadzor reakcije

V opremi kemijskega odlaganja hlapov (CVD) kot plošča za porazdelitev plina se pore uporabljajo za enakomerno transportno reaktivne pline (kot so SIH₄, NH₃) za izboljšanje enakomernosti tankega odlaganja filma.

Pri suhem jedkanju porozna struktura optimizira porazdelitev plazme in izboljša natančnost jedkanja.

● Jedro komponente elektrostatičnega chucka (ESC)

Porozni sic se uporablja kot elektrostatična podlaga za Chuck, ki dosega vakuumsko adsorpcijo skozi mikropore, natančno pritrdi rezine in je odporen proti bombardiranju v plazmi in ima dolgo življenjsko dobo.

● Korozijske komponente

Uporablja se za oblogo votline mokrega jedkanja in čiščenja, se upira koroziji z močnimi kislinami (kot so h₂so₄, hno₃) in močne alkalije (kot je koh).

● Nadzor enakomernosti toplotnega polja

V enojnih kristalnih silicijevih rastnih pečh (kot je Czochralski metoda) kot toplotni ščit ali nosilca se njegova visoka toplotna stabilnost uporablja za vzdrževanje enotnih toplotnih polj in zmanjšanje napak v rešetkah.

● Filtracija in čiščenje

Porozna struktura lahko prestreže onesnaževalce delcev in se uporablja v sistemih za dostavo plina/tekočine iz ultra naprave, da se zagotovi čistost procesa.

Prednosti nad tradicionalnimi materiali