Kaj je PECVD grafitni čoln?

Ⅰ. Kakšen je material PECVD grafitnega čolna?

Temeljni materialPECVD Graphite Boat(Grafitni čoln s kemičnim hlapom, ki je okrepljen s plazmo), je izdelan iz visoke čistostiIzotropni grafitni material(Čistost je običajno ≥99,999%) in je spremenjena s posebnimi postopki (na primer CVD ali površinski premaz kemičnega nalaganja hlapov). Grafit visoke čistosti se pogosto uporablja v sistemih PECVD zaradi odlične električne prevodnosti in visoke toplotne prevodnosti (80 ~ 150 w/m · k). ToGrafitni material visoke čistostilahko ohrani dobro strukturno stabilnost in kemično stabilnost v visokotemperaturnih okoljih ter se lahko upira koroziji reaktivnih plinov in plazme.

Ⅱ. Kakšne so fizikalne lastnosti grafitnega čolna?

Fizikalne lastnosti PECVD grafitnih čolnov vključujejo:

● Električna prevodnost: Isostatični grafit ima odlično električno prevodnost, ki mu omogoča učinkovito upravljanje električne energije in spodbujanje ustvarjanja in vzdrževanja plazme med PECVD.

●  Toplotna prevodnost: Visoka toplotna prevodnost grafita (približno 80 ~ 150 w/m · K) pomaga ohranjati stabilno temperaturno okolje med postopkom PECVD in zagotoviti enakomerno odlaganje tankih filmov.

●  Gostota: Gostota komercialnega polikristalnega grafita se giblje od 1,30 g/cm³ do 1,88 g/cm³. Višja kot je gostota, boljše so fizične in mehanske lastnosti, ki lahko izboljšajo življenjsko dobo storitvenega izdelka.

Ⅲ. Kakšne so prednosti PECVD grafitnega čolna v primerjavi z navadnim grafitnim čolnom?

V primerjavi z navadnimi grafitnimi čolni imajo PECVD grafitni čolni naslednje prednosti:

Ⅳ. Zakaj izbrati Veteksemicon's PECVD Graphite Boat?

Kot vsi vemo, je Veteksemican vodilni proizvajalec in dobavitelj izdelkov za polprevodniške prevleke ingrafitni izdelkina Kitajskem. NašePECVD grafitni čolnise uporabljajo predvsem v polprevodniški in fotovoltaični industriji, zlasti v procesih PECVD in CVD.

Grafitni čolni se običajno uporabljajo kot nosilci za prevoz silicijevih rezin ali drugih materialov, da se zagotovi varno ravnanje in prevoz teh materialov v okolju visoke temperature in plazme. Na primer, v procesu izdelave polprevodnikov so Veeksemicon -ovi PECVD grafitni čolni zasnovani za plazemske procese kemičnega nalaganja hlapov. Grafitni čoln igra vlogo odlaganja pasivacijskih plasti silicijevega nitrida (SINₓ) in nizke dielektrične konstantne (nizke K) filme.

V fotovoltaičnem polju se PECVD grafitni čolni uporabljajo za pripravo tanko-film sončnih celic na osnovi silicija (kot sta amorfni silicijev a-si: H) in plasti pasivacijskih plasti Perc celic. Veexemicon's PECVD grafitni čoln optimizira postopek prevleke z učinkovito razmikom silicijevih rezin in sproži sijaj izcedek, da se doseže enakomerni odlaganje prevleke.

Še pomembneje pa je, da lahko Veteksemicon zagotavlja prilagojene izdelke in tehnične storitve ter lahko oblikuje in izdeluje izdelke grafitnih čolnov različnih specifikacij glede na vaše dejanske zahteve procesa. Izbira Veteksemican pomeni izbiro voditelja industrije z močno močjo v polprevodniški in fotovoltaični industriji. Iskreno se veselimo, da bomo postali vaš dolgoročni partner.