Izdelki

Vetek Semiconductor je kitajski profesionalni proizvajalec zasjevnikov ALD. Vetek je skupaj razvil in izdelal planetarne baze ALD, prevlečenih s SiC, s proizvajalci sistemov ALD, da bi izpolnili visoke zahteve postopka ALD. Dobrodošli v vašem posvetovanju.

Vetek polprevodniški strop, prevlečen s CVB, ima odlične lastnosti, kot so visoka temperaturna odpornost, korozijska odpornost, visoka trdota in nizka koeficient toplotne ekspanzije, zaradi česar je idealna izbira materiala pri proizvodnji polprevodnikov. Kot kitajski vodilni stropni proizvajalec in dobavitelj, prevlečen s KVB, se Vetek Semiconductor veseli vašega posvetovanja.

Vetek Semiconductor je profesionalni proizvajalec MOCVD LED EPI obspevovalca na Kitajskem. Naš MOCVD LED EPI obstreznik je zasnovan za zahtevne aplikacije za epitaksialno opremo. Njegova visoka toplotna prevodnost, kemična stabilnost in trajnost so ključni dejavniki za zagotovitev stabilnega procesa rasti epitaksialne rasti in produkcije polprevodniškega filma.

SIC prevleka ALD obstreznik je podporna komponenta, ki se posebej uporablja v postopku odlaganja atomske plasti (ALD). Ima ključno vlogo v opremi ALD, kar zagotavlja enotnost in natančnost postopka nanašanja. Verjamemo, da vam lahko naši izdelki za planetarni planetar ALD prinesejo kakovostne rešitve izdelkov.

TaC prevlečna cev podjetja VeTek Semiconductor je ključna komponenta za uspešno rast monokristalov silicijevega karbida. S svojo odpornostjo na visoke temperature, kemično inertnostjo in odlično zmogljivostjo zagotavlja proizvodnjo visokokakovostnih kristalov z doslednimi rezultati. Zaupajte našim inovativnim rešitvam za izboljšanje procesa rasti kristalov SiC po metodi PVT in doseganje odličnih rezultatov. Dobrodošli, da nas povprašate.

Vetek Semiconductor ponuja porozni sic keramični chuck, ki se široko uporablja pri tehnologiji obdelave rezin, prenosu in drugih povezavah, primernih za lepljenje, piskanje, obliž, poliranje in druge povezave, lasersko obdelavo. Naš porozni sic keramični chuck ima ultra močne adsorpcije vakuuma, visoko plodnost in visoko čistost, ki ustrezajo potrebam večine polprevodniških industrij.