Sic prevlečeno držalo rezin

VEtek Semiconductor's SIC prevlečenega nosilca rezin se običajno uporablja za popravljanje in podporo rezine med predelavo polprevodnikov. Je visokozmogljivanosilec rezinŠiroko se uporablja v proizvodnji polprevodnikov. S premazom plasti silicijevega karbida (sic) na površinisubstrat, izdelek lahko učinkovito prepreči korozijo substrata in izboljša korozijsko odpornost in mehansko trdnost nosilca rezin, kar zagotavlja zahteve glede stabilnosti in natančnosti procesa obdelave.

Sic prevlečeno držalo rezinse običajno uporablja za popravljanje in podporo rezine med predelavo polprevodnikov. Je visokozmogljiv nosilec rezin, ki se pogosto uporablja pri proizvodnji polprevodnikov. S premazom plastiSilicijev karbid (sic)Na površini podlage lahko izdelek učinkovito prepreči korozijo in izboljša korozijsko odpornost in mehansko trdnostnosilec rezin, ki zagotavlja zahteve glede stabilnosti in natančnosti procesa obdelave.

Silicijev karbid (SIC) ima tališče približno 2.730 ° C in ima odlično toplotno prevodnost približno 120 - 180 w/m · k. Ta lastnost lahko hitro razprši toploto v visokotemperaturnih procesih in prepreči pregrevanje med rezinami in nosilnikom. Zato držalo za rezine, prevlečeno s sic, običajno uporablja grafit, prevlečen s silicijevim karbidom (sic) kot substrat.

V kombinaciji z izjemno visoko trdoto SIC (trdota Vickers približno 2500 HV) lahko silicijev karbid (sic), ki ga odloži postopek CVD, tvori gosto in močno zaščitno prevleko, kar močno izboljša odpornost obrabe za držalo za prevleko Sic.

Držalo za sic, prevlečeno z rezino Vetek Semiconductor, je izdelano iz sic prevlečenega grafita in je nepogrešljiva ključna komponenta v sodobnih polprevodniških epitaksijskih procesih. Spretno združuje odlično toplotno prevodnost grafita (toplotna prevodnost je približno 100-400 w/m · K pri sobni temperaturi) in mehanske trdnosti, odlična kemična korozijska odpornost in toplotna stabilnost silicijevega karbida (tališče SIC je približno 2.730 ° C), ki se odlično izpolnjujejo.

To držalo za dizajn z enim vodom lahko natančno nadzorujeEpitaksialni postopekParametri, ki pomagajo pri ustvarjanju kakovostnih, visokozmogljivih polprevodniških naprav. Njegova edinstvena konstrukcijska zasnova zagotavlja, da se rezina ravna z najbolj skrbnostjo in natančnostjo v celotnem procesu, s čimer zagotavlja odlično kakovost epitaksialne plasti in izboljšuje delovanje končnega polprevodniškega izdelka.

Kot vodilna KitajskaSic prevlečenProizvajalec in vodja imetnikov rezin, Vetek Semiconductor lahko nudi prilagojene izdelke in tehnične storitve v skladu z vašo opremo in zahtevami.Iskreno upamo, da bomo vaš dolgoročni partner na Kitajskem.

SEM podatki CVD SIC filmske kristalne strukture

Osnovne fizikalne lastnosti CVD sic prevleke

Vetek Semiconductor Sic prevlečene trgovine z držalo rezin.