Krečavska plošča za distribucijo plina

Ključne plošče za distribucijo plina, znane tudi kot kremenčeve prhe, so kritične sestavine pri izdelavi polprevodnikov. Te plošče zagotavljajo enoten in stabilen pretok procesnih plinov na površino rezine, ki uporabljajo izjemno čistost, visokotemperaturno odpornost in korozijsko odpornost kremena. Ta natančna dobava je bistvenega pomena za ohranjanje kakovosti in enotnosti deponiranih filmov ali jedkanih lastnosti.

Ključne značilnosti kvarca z visoko čistočo

● Material: 99,99%visoko-čistosti zlivanja kremena

● Visoko temperaturno odpornost: Zdrži temperature nad 1000 ℃

● Korozijska odpornost: Odlična trajnost proti procesnim plinom in plazemskim okoljem

● natančni pretok plina: Enotna porazdelitev mikro luknjic za optimalno dostavo in enakomernost odlaganja plina

● Prilagodljiv dizajn: Velikost, vzorec luknje in funkcije pritrditve lahko prilagodite za posebne modele opreme

Ključne vloge v proizvodnji polprevodnikov

1. fizično odlaganje hlapov (PVD) in kemično odlaganje hlapov (CVD)

Vloga: V procesih PVD in CVD plošča za porazdelitev plina natančno usmerja reaktivne pline (npr. Silane, amonijak, kisik) ali predhodnike na rezino, da tvori želeni tanek film.

Posebne uporabe:

● Nadzor enakomernosti: natančno oblikovane mikro luknje plošče zagotavljajo, da sta pretok in koncentracija plina enakomerna po celotni površini rezin. To je ključnega pomena za odlaganje filmov z dosledno debelino in zmogljivostjo.

● Preprečevanje kontaminacije: Visoka čistost kremena preprečuje, da bi plošča reagirala s procesnimi plini ali sproščala nečistoče. To ohranja čistost filma in preprečuje pomanjkljivosti na površini rezin.

2. Odlaganje kemičnih hlapov s plazmo (PECVD)

Vloga: V PECVD -ju kremenčasta tuš kava ne prinaša le reaktivnih plinov, ampak tudi deluje kot elektroda za nastajanje plazme.

Posebne uporabe:

● Plazemski vžig: Tušlacija je običajno povezana z virom napajanja radiofrekvence (RF), da ustvari plazmo. Visokoenergijski delci znotraj plazme spodbujajo razgradnjo plinastih reaktantov, kar omogoča odlaganje filma pri nižjih temperaturah.

● Termična stabilnost: Quartz ima odlično toplotno stabilnost, ki omogoča, da zdrži visokotemperaturno plazemsko okolje. To pomaga ohranjati enakomerno temperaturo znotraj procesne komore, kar še dodatno zagotavlja kakovost filma in doslednost.

3. Suho jedkanje

Vloga: Pri suhem jedkanju plošča za porazdelitev plina uvaja reaktivne jedkanice (npr. Fluoroogljikovodike, klor) v komoro jedkanja.

Posebne uporabe:

● Enotnost jedkanic: Plošča zagotavlja enakomeren pretok in koncentracijo plinov jedkanic, kar zagotavlja dosledno globino in profil jedkanca v celotni rezini. To je ključnega pomena za doseganje natančnih vzorcev, potrebnih za napredne polprevodniške naprave.

● Korozijska odpornost: Močne korozivne lastnosti plinov jedkanic zahtevajo trajni material. Quartzova visoka korozijska odpornost podaljša življenjsko dobo prhe in zmanjšuje tveganje za prekinitve procesa.

4. Čiščenje rezin

Vloga: V specifičnih postopkih čiščenja rezin se za čiščenje plinov (npr. Ozon, amonijak) enakomerno dovaja na površino rezin, da odstrani ostanke ali onesnaženja.

Posebne uporabe:

● Dosledno čiščenje: Plošča zagotavlja, da čistilni plini dosežejo vsak del rezin, kar omogoča temeljit in enakomeren postopek čiščenja.

● Kemična združljivost: Quartzova združljivost s široko paleto čistilnih kemikalij preprečuje reakcije in ohranja čistost in učinkovitost procesa čiščenja.