Polprevodniška keramična šoba

Polprevodniška keramična šoba ima pomembno vlogo priHDP-CVD postopek, ki se uporablja za natančen nadzor pretoka plina in zagotavljanjeKakovostno odlaganje filma. Razprševanje keramične šobe je natančno zasnovano tako, da zagotovi dosledne in nadzorovane hitrosti pretoka plina, kar zmanjšuje možne turbulence, ko plin vstopi v reakcijsko komoro.

Tehnične specifikacije:

1. Sestava materiala:

Vetek polprevodniški keramični šoba za peskanje peska je običajno narejena iz polprevodniške keramike, kot je aluminijev oksid (AL2O3),Silicijev karbid (sic), ali cirkonijev oksid (ZrO2), imajo ti materiali odlične lastnosti:

    • visoka toplotna stabilnost (prenese temperature nad 1000 ℃)

    • odpornost proti koroziji z reaktivnimi plini, ki se uporabljajo vCVD procesi(kot je silan, amoniak)

    • Odpornost na neprekinjeno izpostavljenost plazmi.

2. Strukturna zasnova:

    • Velikost odprtine: Odprtina keramične šobe Semiconductor je znanstveno zasnovana tako, da omogoča natančen nadzor pretoka plina, kar vpliva na enakomernost in debelino filma.

    • Koti in geometrije: Natančno zasnovani za zagotavljanje enakomerne porazdelitve plina po substratu, kar zmanjšuje napake v nanešeni plasti.

V industriji polprevodnikov igra keramična peskalna šoba Semiconductor ključno vlogo predvsem v procesu HDP-CVD. Uporabljajo se tudi za nanašanje tankih filmov za proizvodnjo mikroelektronike, kar zagotavlja visokokakovostne površinske premaze, ki so enotni in brez kontaminantov.

Trgovine s keramičnimi šobami VeTeK Semiconductor: