Izdelki

Prevleka iz silicijevega karbida

VeTek Semiconductor je specializiran za proizvodnjo izdelkov iz ultra čistega silicijevega karbida, ti premazi so zasnovani za nanašanje na prečiščen grafit, keramiko in ognjevzdržne kovinske komponente.


Naši premazi visoke čistosti so namenjeni predvsem uporabi v polprevodniški in elektronski industriji. Služijo kot zaščitna plast za nosilce rezin, suceptorje in grelne elemente ter jih ščitijo pred jedkimi in reaktivnimi okolji, do katerih pride v procesih, kot sta MOCVD in EPI. Ti procesi so sestavni del obdelave rezin in izdelave naprav. Poleg tega so naši premazi zelo primerni za uporabo v vakuumskih pečeh in segrevanje vzorcev, kjer se srečujemo z visokim vakuumom, reaktivnim okoljem in okoljem s kisikom.


Pri VeTek Semiconductor ponujamo celovito rešitev z našimi naprednimi zmogljivostmi strojne delavnice. To nam omogoča izdelavo osnovnih komponent z uporabo grafita, keramike ali ognjevzdržnih kovin in lastno nanašanje keramičnih prevlek SiC ali TaC. Nudimo tudi storitve premazovanja delov, ki jih dobavljajo stranke, s čimer zagotavljamo prilagodljivost za izpolnjevanje različnih potreb.


Naši izdelki s premazom iz silicijevega karbida se pogosto uporabljajo v Si epitaksiji, SiC epitaksiji, sistemu MOCVD, procesu RTP/RTA, postopku jedkanja, postopku jedkanja ICP/PSS, procesu različnih vrst LED, vključno z modro in zeleno LED, UV LED in globokim UV LED itd., ki je prilagojen opremi LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI itd.


Deli reaktorja, ki jih lahko naredimo:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Prevleka iz silicijevega karbida ima več edinstvenih prednosti:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parameter prevleke iz silicijevega karbida VeTek Semiconductor

Osnovne fizikalne lastnosti CVD SiC prevleke
Lastnina Tipična vrednost
Kristalna struktura FCC β faza polikristalna, pretežno (111) usmerjena
SiC prevleka Gostota 3,21 g/cm³
SiC prevleka Trdota 2500 Vickers trdota(500g obremenitev)
Velikost zrn 2~10 μm
Kemijska čistost 99,99995 %
Toplotna zmogljivost 640 J·kg-1·K-1
Temperatura sublimacije 2700 ℃
Upogibna trdnost 415 MPa RT 4-točkovno
Youngov modul 430 Gpa 4-točkovni upogib, 1300 ℃
Toplotna prevodnost 300 W·m-1·K-1
Toplotna ekspanzija (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FILMA KRISTALNA STRUKTURA

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
Šoba za prevleko CVD SiC

Šoba za prevleko CVD SiC

Šobe za prevleko CVD SiC so ključne komponente, ki se uporabljajo v postopku epitaksije LPE SiC za nanašanje materialov iz silicijevega karbida med proizvodnjo polprevodnikov. Te šobe so običajno izdelane iz visokotemperaturnega in kemično stabilnega materiala silicijevega karbida, da se zagotovi stabilnost v težkih okoljih obdelave. Zasnovani za enakomerno nanašanje, igrajo ključno vlogo pri nadzoru kakovosti in enotnosti epitaksialnih plasti, ki nastanejo v polprevodniških aplikacijah. Pozdravljamo vaše nadaljnje povpraševanje.
CVD zaščitni premaz sic

CVD zaščitni premaz sic

Uporabljeni CVD SIC za prevleko za CVD v Vetekju je Epitaksija LPE, izraz "LPE" pa se običajno nanaša na nizko tlačno epitaksijo (LPE) pri nizko tlačnem kemičnem odlaganju hlapov (LPCVD). V proizvodnji polprevodnikov je LPE pomembna procesna tehnologija za gojenje posameznih kristalnih tankih filmov, ki se pogosto uporabljajo za gojenje silicijevih epitaksialnih plasti ali drugih polprevodniških epitaksialnih plasti. Pls ne oklevajte, da nas kontaktirate za več vprašanj.
Sic prevlečen podstavek

Sic prevlečen podstavek

Vetek Semiconductor je profesionalen pri izdelavi CVD SiC prevleke, TAC prevleke na grafitnem in silicijevem karbidnem materialu. Ponujamo izdelke OEM in ODM, kot so podstavek, prevlečen s sic, nosilec rezin, rezine, rezine, pladenj za nosilce rezin, planetarni disk in tako naprej. Z 1000 razredi čiste sobe in čistilne naprave vam lahko ponudimo izdelke z nečistoč pod 5ppm. Kmalu od vas.
Vhodni obroč s prevleko SiC

Vhodni obroč s prevleko SiC

Vetek Semiconductor se odlikuje po tesnem sodelovanju s strankami pri izdelavi zasnov po meri za vhodni obroč s prevleko iz SiC, prilagojen posebnim potrebam. Ta vhodni obroč s prevleko iz SiC je natančno zasnovan za različne aplikacije, kot sta oprema za CVD SiC in epitaksija s silicijevim karbidom. Za prilagojene rešitve SiC Coating Inlet Ring se obrnite na Vetek Semiconductor za prilagojeno pomoč.
Sic prevlečen podpornik

Sic prevlečen podpornik

VeTek Semiconductor je profesionalni proizvajalec in dobavitelj na Kitajskem, ki v glavnem proizvaja podporne obroče, prevlečene s SiC, prevleke iz silicijevega karbida (SiC) CVD, prevleke iz tantalovega karbida (TaC). Zavezani smo zagotavljanju popolne tehnične podpore in vrhunskih rešitev izdelkov za industrijo polprevodnikov, dobrodošli, da nas kontaktirate.
Rezina chuck

Rezina chuck

Wafer chunk je orodje za vpenjanje rezin v polprevodniškem procesu in se pogosto uporablja v PVD, CVD, ETCH in drugih procesih. Vetek Semiconductorjeva vpenjalna glava za rezine ima ključno vlogo pri proizvodnji polprevodnikov, saj omogoča hiter in visokokakovosten izpis. Z lastno proizvodnjo, konkurenčnimi cenami in zanesljivo podporo za raziskave in razvoj se Vetek Semiconductor odlikuje s storitvami OEM/ODM za natančne komponente. Veselimo se vašega povpraševanja.
Kot profesionalec Prevleka iz silicijevega karbida proizvajalec in dobavitelj na Kitajskem imamo svojo tovarno. Ne glede na to, ali potrebujete prilagojene storitve, da zadovoljijo posebne potrebe vaše regije ali želite kupiti napredne in trajne Prevleka iz silicijevega karbida, narejene na Kitajskem, nam lahko pustite sporočilo.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept