Izdelki

Kot napredni proizvajalec izdelkov in tovarna izdelka za tesnjenje SiC na Kitajskem. Vetek Semiconducto SIC tesnilni del je visokozmogljiva tesnilna komponenta, ki se široko uporablja pri obdelavi polprevodnikov in drugih ekstremnih procesih visoke temperature in visokega tlaka. Dobrodošli v nadaljnjem posvetovanju.

Vetek Semiconductor je profesionalni alumina keramični proizvajalec in tovarna na Kitajskem. Alumina Keramic Vacuum Chuck uporablja keramiko z visoko čistočijo oksid z odlično toplotno odpornostjo, kemično odpornostjo in mehansko trdnostjo. Uporablja se predvsem za popravljanje in podporo rezine in podlage. Je visokozmogljiva oprema za predelavo polprevodnikov. Dobrodošli v nadaljnjih poizvedbah.

Kot profesionalni trdo sestavljeni proizvajalec izdelkov in dobavitelj izdelanih izdelkov iz ogljikovih vlaken na Kitajskem, je Vetek Semiconductor Trdo kompozitni ogljikova vlakna visokokakovosten material, zasnovan za visokotemperaturno uporabo, kar zagotavlja odlično toplotno odpornost in izolacijsko zmogljivost. Ta izdelek se pogosto uporablja v paleti ogljikovega ogljikovega kompozita PECVD, da se zagotovi stabilnost in zanesljivost v ekstremnih pogojih. Dobrodošli v nadaljnjem posvetovanju.

Kot profesionalni inovator in vodja obročenih izdelkov, prevlečenih s karbidom Tantalum na Kitajskem, ima obroč Vetek Semiconductor Tantalum karbid nenadomestljivo vlogo pri rasti kristala SiC z odlično visoko temperaturno odpornostjo, odpornostjo na obrabo in odlično toplotno prevodnostjo. Dobrodošli v nadaljnjem posvetovanju.

Kot vodilni proizvajalec in dobavitelj izdelkov Silicon karbide rezine na Kitajskem ima silicijev silicijev karbid rezin Vetek Semicon Chuck neobvladljivo vlogo v procesu epitaksialne rasti z odlično visoko temperaturno odpornostjo, kemično korozijsko odpornostjo in odpornostjo na toplotni udar. Dobrodošli v nadaljnjem posvetovanju.

Glava tuš o silicijevem karbidu ima odlično visoko temperaturno toleranco, kemično stabilnost, toplotno prevodnost in dobro zmogljivost porazdelitve plina, ki lahko dosežejo enakomerno porazdelitev plina in izboljšajo kakovost filma. Zato se običajno uporablja v visokotemperaturnih procesih, kot so kemično odlaganje hlapov (CVD) ali fizični odlaganje hlapov (PVD). Dobrodošli na nadaljnjem posvetovanju nam, Vetek Semiconductor.