Izdelki

Fokusni obroč iz trdnega SiC Veteksemi bistveno izboljša enakomernost jedkanja in stabilnost postopka z natančnim nadzorom električnega polja in zračnega toka na robu rezine. Široko se uporablja v postopkih natančnega jedkanja silicija, dielektrikov in sestavljenih polprevodniških materialov ter je ključna komponenta za zagotavljanje donosa množične proizvodnje in dolgoročnega zanesljivega delovanja opreme.

V kritičnih korakih čiščenja rezin, jedkanja in mokrega jedkanja je kremenčeva kopel visoke čistosti več kot le posoda; je prva obrambna linija za uspeh procesa. Kontaminacija s kovinskimi ioni, razpoke zaradi termičnega šoka, kemični napad in ostanki delcev so skriti vzroki za nihanja izkoristka. Veteksemi je globoko zakoreninjen v polprevodniškem kremenu. Vsaka kremenčeva kopel, ki jo izdelujemo, je zasnovana tako, da zagotavlja brezkompromisno zanesljivost in čistočo za vaše vrhunske procese.

Naša robotska roka silicijevega karbida (sic) je zasnovana za visokozmogljivo ravnanje z režami v napredni proizvodnji polprevodnikov. Ta robotska roka, narejena iz silicijevega karbida, ponuja izjemno odpornost na visoke temperature, korozijo v plazmi in kemični napad, kar zagotavlja zanesljivo delovanje v zahtevnih čistih okoljih. Njegova izjemna mehanska trdnost in dimenzijska stabilnost omogočata natančno ravnanje z režami, hkrati pa zmanjšuje tveganja onesnaženja, zaradi česar je idealna izbira za MOCVD, epitaksijo, ionsko implantacijo in druge kritične aplikacije za ravnanje z rezinami. Pozdravljamo vaše poizvedbe.

VETEKSmimin je specializiran za zagotavljanje prilagojenih izdelkov iz kremenčeve rezine za polprevodniško industrijo. Naša linija izdelkov vključuje polprevodniške steklene čolne s kremenami, kremenčevimi difuzijskimi čolni in prilagojene kremenčeve čolne, ki se široko uporabljajo v visoko natančnih procesih, kot so difuzija, oksidacija in KVB. VETEKSEMON vztraja pri zagotavljanju celovitih prilagojenih storitev izdelkov in tehnologij. Veselimo se vašega nadaljnjega posvetovanja.

Čolni za rezine Vekeksemican Sic se pogosto uporabljajo v kritičnih visokotemperaturnih procesih v proizvodnji polprevodnikov, ki služijo kot zanesljivi nosilci za oksidacijo, difuzijsko in žarjenje za integrirane vezje na osnovi silicija. Prav tako se odlično odrežejo v polprevodniškem sektorju tretje generacije, ki so popolnoma primerni za zahtevne procese, kot sta epitaksialna rast (EPI) in kovinsko-organska kemična nalaganje hlapov (MOCVD) za naprave SIC in GAN. Prav tako podpirajo visokotemperaturno izdelavo sončnih celic visoko učinkovitosti v fotovoltaični industriji. Veselimo se vašega nadaljnjega posvetovanja.

Grafitna glava za tuširanje CVD SiC iz Venekkemican je visokozmogljiva komponenta, ki je posebej zasnovana za postopke polprevodniškega kemičnega odlaganja hlapov (CVD). Izdelana iz grafita visoke čistosti in zaščitena s kemičnim nanašanjem hlapov (CVD) silicijevega karbida (SIC), ta glava tuširanja zagotavlja izjemno vzdržljivost, toplotno stabilnost in odpornost na korozivne procesne pline. Veselimo se vašega nadaljnjega posvetovanja.